재료 선택적 식각
Material-selective etching
재료 선택적 식각은 함께 노출된 재료 중 특정 재료를 우선 제거하도록 반응 차이를 이용하는 식각이다.
설명
선택비뿐 아니라 표면 산화·조성·응력·접근성도 결과를 바꾼다. 평탄 시편의 선택성이 적층 구조 내부에서 그대로 유지되지 않을 수 있다.
예시
희생층은 남고 지지층은 얇아졌다면 제거 대상의 접근성과 보존층 노출시간을 함께 조사한다.
구분
재료 이름만 아니라 실제 표면 상태와 구조에서 선택성을 평가한다.