주입 손상과 어닐링
Implant damage and annealing
주입 손상은 이온 충돌로 결정 배열이 흐트러지는 현상이며, 어닐링은 회복과 도펀트 활성화를 돕는 열처리다.
설명
손상 정도는 도즈·에너지·이온종·기판 온도에 영향을 받는다. 열처리는 회복과 활성화에 유리하지만 확산으로 분포를 바꿀 수 있다.
예시
주입 장비의 변화와 열처리 변화가 겹치면 결과만으로 원인을 한쪽에 배정하지 않는다. 전후 이력과 구조·전기 지표를 연결한다.
구분
주입의 결과는 후속 열처리까지 포함한 통합 조건에서 평가한다.