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광학 리소그래피

Optical lithography

광학 리소그래피는 빛으로 형성한 패턴 정보를 감광막에 전달하여 후속 가공의 위치와 모양을 정하는 과정이다.

설명

광학상·레지스트 반응·이 연속되어 최종 패턴이 된다. 광학 계산이 좋은 조건도 감광막이나 기판 상태가 달라지면 결과가 바뀐다.

현상

현상은 감광 반응으로 생긴 용해도 차이를 이용해 선택된 레지스트 영역을 제거하는 과정이다.

후 선폭이 변했을 때 노광기만 점검하지 않고 코팅과 열처리 이력도 함께 본다.

현상

현상은 감광 반응으로 생긴 용해도 차이를 이용해 선택된 레지스트 영역을 제거하는 과정이다.

광학상과 실제 레지스트 패턴을 구분한다.

현상은 감광 반응으로 생긴 용해도 차이를 이용해 선택된 레지스트 영역을 제거하는 과정이다.

핵심 품질 특성인 CTQ는 제품의 기능·신뢰성에 중요한 영향을 주어 관리 대상으로 정한 특성이다.

공정 윈도우는 정한 품질 조건을 동시에 만족하는 입력변수 조합의 범위다.