설명
불충분한 반응··국부 막 두께 등 여러 원인으로 생긴다. 잔사는 후속 식각의 시작을 늦춰 같은 시간에 다른 깊이를 만들 수 있다.
현상은 감광 반응으로 생긴 용해도 차이를 이용해 선택된 레지스트 영역을 제거하는 과정이다.
용어 상세 ↗예시
식각 후 일부 구멍만 얕으면 식각 조건 외에 후 바닥 청정도를 확인한다.
현상은 감광 반응으로 생긴 용해도 차이를 이용해 선택된 레지스트 영역을 제거하는 과정이다.
용어 상세 ↗구분
후속 식각 불균일이 전 단계의 잔사에서 시작될 수 있다.