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소스 전력과 바이어스

Source power and bias

소스 전력과 바이어스는 각각 생성과 기판 측 이온 운동을 조절하는 데 사용하는 입력이다.

플라즈마

플라즈마는 전자·이온과 중성 입자가 함께 존재하는 이온화된 기체 상태다.

설명

일부 장비는 두 기능을 비교적 분리해 제어하지만 실제 결합이 완전히 사라지는 것은 아니다. 한 입력을 바꾸면 여러 응답이 움직일 수 있다.

소스 변경 실험에서도 이온 전류·자기 바이어스·온도 변화를 함께 기록한다.

장비 구조에 맞는 독립성의 범위를 확인한다.

플라즈마는 전자·이온과 중성 입자가 함께 존재하는 이온화된 기체 상태다.

변동의 계층은 측정 반복·웨이퍼 내부·웨이퍼 사이·로트 사이에서 생기는 차이를 구분하는 관점이다.

공간적 서명은 측정값이나 결함이 웨이퍼·필드의 위치에 따라 보이는 반복적 분포 형태다.