반응성 이온 식각
Reactive ion etching
RIE
반응성 이온 식각인 RIE는 화학 반응과 이온 충돌을 함께 이용하여 재료를 제거하는 방식이다.
설명
이온은 표면 반응을 돕거나 보호막을 제거하고 화학종은 휘발성 생성물 형성에 기여할 수 있다. 결합 효과는 두 작용의 단순 합과 다를 수 있다.
예시
화학 반응이 거의 없는 재료에서 에너지만 높이면 선택성보다 물리적 손실이 커질 수 있다.
구분
제거율·방향성·선택성·손상을 동시에 본다.