화학기상증착
Chemical vapor deposition
CVD
화학기상증착은 기체 전구체의 반응·분해를 이용해 기판 위에 고체막을 형성하는 공정이다.
설명
전구체가 표면까지 이동하고 흡착·반응한 뒤 부산물이 빠져나가야 성장이 이어진다. 장비는 온도·압력·공급·배기를 통해 이 연속 과정을 만든다.
예시
막두께 변화가 보이면 반응 속도만 보지 말고 공급과 부산물 제거까지 분리한다. 같은 레시피가 다른 챔버에서 같은 수송 상태를 뜻하지는 않는다.
구분
CVD는 표면 반응과 기체 전달이 직렬로 연결된 과정이다.