원자층 증착
Atomic layer deposition
ALD
원자층 증착은 분리된 표면 반응을 순차 반복해 막을 성장시키는 증착 방식이다.
설명
각 반반응이 표면 반응자리의 소진으로 제한되도록 설계한다. 한 사이클이 반드시 정확히 한 원자층을 만든다는 뜻은 아니며 재료·표면·조건에 따라 성장량이 달라진다.
예시
사이클 수만으로 두께를 예측하려면 초기 핵생성과 정상 성장의 차이를 확인한다. 전구체를 번갈아 넣었다는 사실만으로 자기제한성이 증명되지는 않는다.
구분
ALD의 핵심은 시간 순서뿐 아니라 반응 포화의 확인이다.