용어검색/반도체EBREdge Bead Removal팩별 설명반도체 공정 L1반도체 장비 L1EBR은 도포 후 웨이퍼 가장자리의 두꺼운 감광막 등을 제거하는 처리다.웨이퍼웨이퍼는 반도체 소자를 만드는 기판이다.용어 상세 ↗정의 복사관련 학습 ↓설명가장자리 두꺼운 부분이 접촉·이송·후속 공정에서 문제를 만들 수 있어 관리한다. 제거 폭이 과하면 유효 영역의 막까지 영향을 받을 수 있다.예시가장자리 박리나 입자 문제를 볼 때 EBR 위치와 뒷면 상태를 대조한다. 제거 범위를 넓히는 것이 언제나 결함 감소의 정답은 아니다.구분가장자리 청정과 필요한 패턴 영역 보존을 함께 고려한다.함께 배우는 용어웨이퍼↗웨이퍼는 반도체 소자를 만드는 기판이다.레시피↗레시피는 장비가 공정을 수행하도록 단계별 설정값·시간·전환 조건을 묶어 둔 작업 조건 집합이다.면내 균일도↗면내 균일도는 한 웨이퍼의 여러 위치에서 측정한 공정 결과가 얼마나 고르게 분포하는지를 나타낸다.이전 용어← 스핀 코팅다음 용어소프트 베이크 →반도체 기술지도전체 지도 ↗L0 큰 그림L1 분야 이해L2 깊은 탐구✦ BESTL0반도체 시작10무료학습 10개✦ BESTL1반도체 용어오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 공정오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 공정오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 장비오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 장비오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 패키징·HBM오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 패키징·HBM오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 수율·불량오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 수율·불량오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 테스트오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 테스트오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 계측·검사오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 계측·검사오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 소재오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 소재오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 소자오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 소자오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 클린룸·오염관리오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 클린룸·오염관리오픈 30% · 27,300원학습 30개L1Fab 자동화·MES오픈 30% · 27,300원학습 30개L2Fab 자동화·MES오픈 30% · 27,300원학습 30개