광근접보정(OPC)
Optical Proximity Correction
Optical Proximity Correction (OPC)광근접보정OPC
과 때문에 이 설계와 다르게 인쇄되는 것을 보완하도록 패턴을 미리 수정하는 기법.
마스크
포토리소그래피에서 웨이퍼에 전사할 회로 패턴을 담아 노광에 사용하는 패턴 캐리어. DUV에서는 주로 투과형 레티클/마스크를, EUV에서는 반사형 다층 마스크를 사용한다.
용어 상세설명
OPC는 가 잘못 만들어진 뒤 고치는 것이 아니라, 데이터를 미리 보정해 최종 을 목표에 가깝게 만드는 방법이다.
마스크
포토리소그래피에서 웨이퍼에 전사할 회로 패턴을 담아 노광에 사용하는 패턴 캐리어. DUV에서는 주로 투과형 레티클/마스크를, EUV에서는 반사형 다층 마스크를 사용한다.
용어 상세예시
선 끝이나 모서리가 왜곡될 것을 예측해 에 미세 보정 형상을 추가한다. 관련 용어: / /
마스크
포토리소그래피에서 웨이퍼에 전사할 회로 패턴을 담아 노광에 사용하는 패턴 캐리어. DUV에서는 주로 투과형 레티클/마스크를, EUV에서는 반사형 다층 마스크를 사용한다.
용어 상세구분
OPC는 보정이고 오버레이 보정은 층 사이 위치 오차를 줄이는 문제다.
마스크
포토리소그래피에서 웨이퍼에 전사할 회로 패턴을 담아 노광에 사용하는 패턴 캐리어. DUV에서는 주로 투과형 레티클/마스크를, EUV에서는 반사형 다층 마스크를 사용한다.
용어 상세