노광 후 베이크
Post-exposure bake
PEB
노광 후 베이크인 PEB는 노광으로 시작된 반응을 열적으로 진행시키거나 패턴 형성을 안정화하는 공정이다.
설명
레지스트에서는 촉매 확산·반응 속도가 에 영향을 준다. 모든 레지스트에서 역할과 필요성이 같은 것은 아니다.
예시
이 그대로인데 베이크 플레이트별 가 달라지면 실제 온도·대기시간·접촉을 비교한다.
구분
노광 결과 변화의 원인을 노광 단계로만 제한하지 않는다.
Post-exposure bake
PEB
노광 후 베이크인 PEB는 노광으로 시작된 반응을 열적으로 진행시키거나 패턴 형성을 안정화하는 공정이다.
레지스트에서는 촉매 확산·반응 속도가 에 영향을 준다. 모든 레지스트에서 역할과 필요성이 같은 것은 아니다.
이 그대로인데 베이크 플레이트별 가 달라지면 실제 온도·대기시간·접촉을 비교한다.
노광 결과 변화의 원인을 노광 단계로만 제한하지 않는다.