현상
Development
현상은 노광과 후속 처리로 용해성이 달라진 감광막 중 선택된 부분을 제거해 패턴을 드러내는 과정이다.
설명
현상액 공급, 접촉 시간, 온도와 가 결과를 만든다. 레지스트 종류에 따라 제거되는 영역의 관계가 달라지며 현상액이 아래 재료에 미치는 영향도 고려한다.
예시
패턴 사이에 잔사가 남으면 노광량뿐 아니라 현상과 감광막 상태를 함께 조사한다. 한 단계의 조건을 무작정 늘리면 다른 형상 손실이 생길 수 있다.
구분
남겨야 할 부분과 제거해야 할 부분을 기준으로 결과를 읽는다.