노광 장비
Lithography system
노광 장비는 마스크의 패턴 정보를 빛과 광학계를 통해 의 감광막에 전달하는 장비다.
설명
광원, 조명계, 투영 광학계와 정밀 스테이지가 협력한다. 노광 자체가 재료를 곧바로 하는 것이 아니라 후속 에 필요한 변화를 만든다.
예시
노광이 완료되어도 실제 남은 선폭은 감광막·베이크·을 거쳐 확인해야 한다. 광학 성능과 최종 패턴 성능을 연결하되 동일시하지 않는다.
구분
노광은 패턴 정보 전사이며 재료 제거는 후속 공정과 연결된다.