과식각
Overetch
과식각은 두께·속도·구조 차이로 남는 재료를 제거하기 위해 기준 종점이나 제거시간 이후 추가로 수행하는 식각이다.
설명
충분한 제거를 돕지만 먼저 열린 영역의 보호층 손실과 손상을 늘린다. 필요한 여유는 선택비와 비균일도를 함께 고려해 정한다.
예시
가상 종점 뒤 20초 동안 정지막이 0.2 nm/s로 노출되면 손실은 4 nm다. 노출 시작이 다른 위치는 별도 계산한다.
구분
추가시간과 잔류 제거·보호막 손실의 균형을 확인한다.