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ICP

Inductively Coupled Plasma

유도 결합 플라스마

팩별 설명

ICP는 코일이 만드는 유도 전기장을 통해 가스에 에너지를 전달하는 방식이다.

플라스마

플라스마는 전자와 이온 등 전하를 띤 입자가 중성 입자와 함께 존재하며 집단적인 전기적 거동을 보이는 상태다.

설명

소스와 바이어스를 별도로 구동하는 구성이 흔해 밀도와 표면 에너지를 비교적 나누어 조절할 수 있다. 실제로는 변수 간 결합이 남는다.

플라스마

플라스마는 전자와 이온 등 전하를 띤 입자가 중성 입자와 함께 존재하며 집단적인 전기적 거동을 보이는 상태다.

웨이퍼

웨이퍼는 반도체 소자를 만드는 기판이다.

이온

이온은 전자를 잃거나 얻어 순전하를 띤 원자 또는 분자다.

소스 전력을 올린 뒤 결과가 달라져도 바이어스 설정이 같다는 이유만으로 표면 조건이 전혀 변하지 않았다고 단정하지 않는다.

분리 제어가 가능하다는 말과 완전한 독립은 다르다.

플라스마는 전자와 이온 등 전하를 띤 입자가 중성 입자와 함께 존재하며 집단적인 전기적 거동을 보이는 상태다.

웨이퍼는 반도체 소자를 만드는 기판이다.

이온은 전자를 잃거나 얻어 순전하를 띤 원자 또는 분자다.