과식각 여유
Overetch margin
과식각
과식각 여유는 검출된 주 식각 종료 뒤 남은 부분을 제거하기 위해 추가하는 처리 여유다.
설명
막두께·속도·패턴 차이를 보완하지만 마스크와 하부막 소모·손상을 늘릴 수 있다. 일정 비율과 일정 시간 방식은 초기 조건 변화에 다르게 반응한다.
예시
가상 주 식각 100초에 15%를 추가하면 15초가 더해진다. 이 비율은 교육용이며 실제 제품에는 검증된 한계와 하부막 보호 조건이 필요하다.
구분
잔류 제거와 보호막·하부막 보존의 교집합에서 여유를 정한다.