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플라즈마 임피던스

Plasma impedance

플라즈마 임피던스는 전압과 전류의 관계를 정하는 플라즈마·전극계의 복소 전기적 부하다.

RF는 고주파를 뜻하며, 이 팩에서는 플라즈마 생성·바이어스에 쓰는 교류 전력의 맥락으로 사용한다.

설명

압력·가스·전자 밀도·벽 상태가 바뀌면 부하도 바뀐다. 저항 성분은 전력 소모와, 리액턴스 성분은 전기장·자기장의 에너지 저장과 연결된다.

같은 발생기 설정에서도 점화 전후와 공정 단계 사이의 부하는 다르다. 임피던스 변화가 공정 변화의 단서일 수 있으나 값 하나로 원인을 특정하지는 못한다.

계통을 고정 저항이 아니라 공정 상태와 함께 변하는 부하로 본다.

RF는 고주파를 뜻하며, 이 팩에서는 플라즈마 생성·바이어스에 쓰는 교류 전력의 맥락으로 사용한다.

RF는 고주파를 뜻하며, 이 팩에서는 플라즈마 생성·바이어스에 쓰는 교류 전력의 맥락으로 사용한다.

핵심 품질 특성은 제품 기능이나 후속 공정에 중요한 결과 변수다.

정전용량 압력계는 압력에 따른 다이어프램 변형을 정전용량 변화로 읽는 압력 센서다.