용어검색/반도체콘택트 전 세정Pre-contact clean콘택트 전 세정은 접속 계면의 산화막·잔사·오염 등을 조절하여 후속 금속과 적절히 접촉하도록 하는 표면 준비다.정의 복사관련 학습 ↓설명제거가 부족하면 계면 저항이 남고 과하면 접촉 대상의 손실과 손상이 늘 수 있다. 세정 후 대기시간도 계면을 다시 바꾼다.예시세정 조건은 같지만 대기시간이 길어진 로트에서 저항이 늘면 재산화와 오염을 비교한다.구분세정 완료 시점과 금속 형성 시점 사이도 공정 조건이다.함께 배우는 용어표면 준비↗표면 준비는 후속 증착·접합·반응이 재현되도록 오염과 표면 화학상태를 조정하는 과정이다.건조와 모세관 힘↗모세관 힘은 액체의 표면장력과 계면 형상으로 생기는 힘이며, 미세 패턴 건조 중 변형을 일으킬 수 있다.실리콘 소모↗실리콘 소모는 열산화 중 실리콘이 산화막으로 바뀌어 원래 기판 일부가 줄어드는 현상이다.이전 용어← 접촉 비저항다음 용어실리사이드 →반도체 기술지도전체 지도 ↗L0 큰 그림L1 분야 이해L2 깊은 탐구✦ BESTL0반도체 시작10무료학습 10개✦ BESTL1반도체 용어오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 공정오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 공정오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 장비오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 장비오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 패키징·HBM오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 패키징·HBM오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 수율·불량오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 수율·불량오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 테스트오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 테스트오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 계측·검사오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 계측·검사오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 소재오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 소재오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 소자오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 소자오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 클린룸·오염관리오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 클린룸·오염관리오픈 30% · 27,300원학습 30개L1Fab 자동화·MES오픈 30% · 27,300원학습 30개L2Fab 자동화·MES오픈 30% · 27,300원학습 30개