선택비
Etch selectivity
선택비는 정해진 조건에서 목표 재료의 을 비교 대상 재료의 식각률로 나눈 비율이다.
설명
목표막을 빠르게 제거하면서 마스크나 하부막을 적게 손상시키려 할 때 중요하다. 분자와 분모에 어떤 재료를 놓았는지 반드시 확인한다.
예시
교육용 조건에서 목표막 100 nm/min, 마스크 10 nm/min이면 목표막 대 마스크 선택비는 10이다. 하부막에 대한 선택비까지 10이라고 할 수는 없다.
구분
선택비 숫자는 비교한 두 재료와 함께 기억한다.