이방성 식각
Anisotropic etching
이방성
이방성 식각은 방향에 따라 제거 속도가 달라지는 식각이다.
설명
(RIE)에서는 이온의 방향성, 화학 반응, 측벽 보호가 함께 수직 구조 형성에 기여할 수 있다. 이온 에너지만 높인다고 모든 재료에서 좋은 수직성이 나오는 것은 아니다.
예시
하부는 더 깊어졌지만 측벽 손상이나 마스크 소모가 늘었다면 방향성 이득과 손실을 함께 본다.
구분
수직성은 한 변수의 최대화가 아니라 제거와 보호의 균형이다.