식각 마스크
Etch mask
마스크는 제거하지 않을 영역을 덮어 식각으로부터 보호하는 패턴층이다.
설명
레지스트나 하드마스크를 사용하며 충분한 두께·내식각성·형상 안정성이 필요하다. 마스크도 중 소모되므로 목표 깊이와 를 함께 고려한다.
예시
깊은 에서 마스크가 먼저 소모되면 보호 영역이 손실될 수 있다. 반응 시간만 늘리기 전에 남은 마스크 여유를 확인한다.
구분
깊이 목표에는 그 시간 동안 버틸 보호층이 필요하다.
Etch mask
마스크는 제거하지 않을 영역을 덮어 식각으로부터 보호하는 패턴층이다.
레지스트나 하드마스크를 사용하며 충분한 두께·내식각성·형상 안정성이 필요하다. 마스크도 중 소모되므로 목표 깊이와 를 함께 고려한다.
깊은 에서 마스크가 먼저 소모되면 보호 영역이 손실될 수 있다. 반응 시간만 늘리기 전에 남은 마스크 여유를 확인한다.
깊이 목표에는 그 시간 동안 버틸 보호층이 필요하다.