CVD
Chemical Vapor Deposition
화학 기상 증착
CVD는 기체 상태로 공급한 원료가 분해되거나 반응하여 기판 위에 고체 막을 형성하는 화학 기상 증착이다.
설명
기체 공급, 표면 반응과 부산물 배출이 연결된다. 원료가 충분해도 표면 반응이 느리면 성장 속도가 제한되고, 반응이 빨라도 공급이 부족하면 원하는 막을 얻기 어렵다.
예시
온도와 유량을 같은 방향으로 바꾸어도 어느 과정이 제한 요인인지에 따라 결과가 다를 수 있다. 설정값보다 공급·반응·배출의 역할을 먼저 구분한다.
구분
CVD는 가스를 굳히는 과정이 아니라 화학 반응으로 막을 만드는 과정이다.