DUV 노광
Deep ultraviolet lithography
DUV 노광은 심자외선 영역의 빛을 사용하는 노광 방식이다.
설명
대표적으로 KrF 248 nm와 ArF 193 nm 광원이 쓰이며 렌즈와 마스크를 포함한 광학계로 패턴을 전달한다. 액침 등 구조에 따라 해상도 확보 방식이 달라진다.
예시
DUV라는 이름만으로 모든 장비의 해상도·공정 용도를 같게 두지 않는다. 파장 외에 , 공정 조건과 패터닝 방식도 함께 영향을 준다.
구분
파장은 성능을 결정하는 중요한 요소이지만 유일한 요소는 아니다.