원자층 증착
Atomic layer deposition
ALD원자층증착
원자층 증착인 ALD는 전구체와 반응물의 순차적인 표면 반응을 반복하여 박막을 형성하는 방법이다.
설명
표면 반응이 자기제한적으로 진행되는 조건을 이용한다. 한 사이클이 언제나 정확한 원자 한 층을 만드는 것은 아니다.
예시
재료와 표면에 따라 한 사이클의 성장량이 원자층보다 작을 수 있고 초기 사이클은 지연될 수 있다.
구분
사이클 수만 보지 말고 실제 성장량과 포화 여부를 확인한다.