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플라즈마 ALD

Plasma-enhanced ALD

PEALD

팩별 설명

는 ALD의 반응 단계에서 플라즈마가 만든 반응성 종을 사용하는 방식이다.

플라즈마

플라즈마는 전자·이온과 중성 입자가 함께 존재하는 이온화된 기체 상태다.

ALD

원자층 증착인 ALD는 전구체와 반응물의 순차적인 표면 반응을 반복하여 박막을 형성하는 방법이다.

설명

반응과 막질을 개선하거나 온도를 낮출 수 있지만 재결합·이온 방향성·표면 손상으로 깊은 구조의 반응이 달라질 수 있다.

라디칼

라디칼은 홀전자를 가진 화학적으로 반응성 높은 종이다.

평탄 웨이퍼 성능이 좋은 조건도 높은 구조에서는 별도 피복성 평가가 필요하다.

종횡비

종횡비는 구조의 깊이나 높이를 대표 폭으로 나눈 비다.

평탄막 성능을 3차원 구조에 그대로 대입하지 않는다.

원자층 증착인 ALD는 전구체와 반응물의 순차적인 표면 반응을 반복하여 박막을 형성하는 방법이다.

플라즈마는 전자·이온과 중성 입자가 함께 존재하는 이온화된 기체 상태다.

라디칼은 홀전자를 가진 화학적으로 반응성 높은 종이다.