EUV 노광
Extreme ultraviolet lithography
EUV 노광은 약 13.5 nm 파장의 극자외선을 사용하는 노광 방식이다.
설명
빛이 물질에 잘 흡수되므로 환경과 반사 광학계를 이용한다. 짧은 파장이 미세 패턴에 도움을 주지만 광원·마스크·레지스트·결함 제어의 요구도 함께 높아진다.
예시
EUV를 쓰면 정렬이나 감광막 문제가 자동으로 사라지는 것은 아니다. 기술 선택은 필요한 패턴과 공정 조건을 기준으로 이해한다.
구분
짧은 파장의 이점과 시스템 전체의 제약을 함께 본다.