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PECVD

Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition

플라스마 강화 화학 기상 증착

PECVD는 의 활성화 작용을 이용해 막 형성 반응을 돕는 이다.

플라스마

플라스마는 전자와 이온 등 전하를 띤 입자가 중성 입자와 함께 존재하며 집단적인 전기적 거동을 보이는 상태다.

화학 기상 증착

CVD는 기체 상태로 공급한 원료가 분해되거나 반응하여 기판 위에 고체 막을 형성하는 화학 기상 증착이다.

설명

열만으로 반응시키는 경우보다 낮은 기판 온도에서 증착할 수 있는 조합이 있어 열에 민감한 구조에 유용하다. 다만 막의 수소 함량·밀도·응력과 손상도 평가해야 한다.

증착 온도를 낮추었다고 다른 막 특성이 모두 유지되는 것은 아니다. 두께와 함께 요구 물성을 확인해야 적용 가능성을 판단할 수 있다.

낮은 온도라는 장점과 최종 막질 요구를 함께 본다.

플라스마는 전자와 이온 등 전하를 띤 입자가 중성 입자와 함께 존재하며 집단적인 전기적 거동을 보이는 상태다.

CVD는 기체 상태로 공급한 원료가 분해되거나 반응하여 기판 위에 고체 막을 형성하는 화학 기상 증착이다.

면내 균일도는 한 웨이퍼의 여러 위치에서 측정한 공정 결과가 얼마나 고르게 분포하는지를 나타낸다.